หัวเว่ย ปลดแอกสำเร็จ!! ผลิตเครื่อง ‘เครื่องลิโทกราฟี’ ได้แล้ว

ปัจจุบันจีนมียอดขายเซมิคอนดักเตอร์มากเป็นอันดับ 3 ของโลก แม้จีนจะถูกสหรัฐแบนบริษัทเทคโนโลยีชั้นสูงอย่าง หัวเว่ย อาลีบาบา ไป่ตู้ และเทนเซ็นต์ จากการเข้าถึงชิปเซ็ตระดับสูง (Advance Chipset) และนั้นทำให้พญามังกรจำเป็นต้องหันมาพึ่งพาตนเองในด้านนี้อย่างเร่งด่วนที่สุด อย่างที่เรารู้กันว่า หัวเว่ย เทคโนโลยี จำกัด (มหาชน) นั้นถูกแบนและโจมตีอย่างรุนแรงจากสหรัฐที่นำโดยกระทรวงพาณิชย์ไม่ให้สามารถเข้าถึงชิปเซ็ตขั้นสูงได้ โดยก่อนหน้านี้หัวเว่ยก็เหมือนบริษัทอื่น ๆ คือพึ่งพาการผลิตชิปเซ็ตจากยักษ์ใหญ่ของโลกจากไต้หวันอย่าง TSMC แต่ หัวเว่ย ในวันนี้ไม่มีทางเลือกอื่น นอกจากลุกขึ้นมาพัฒนาชิปเซ็ตภายในประเทศให้ได้ ซึ่งภารกิจนี้ไม่ต่างจากเข็นครกขึ้นภูเขา

หัวเว่ย มีโครงการพัฒนาเซมิคอนดักเตอร์ของตัวเองที่ชื่อว่า Tashan ซึ่งแปลเป็นไทยว่า ความกล้าหาญ โดยโครงการนี้คืออนาคตของบริษัทสัญชาติจีนทั้งหลายเลยทีเดียว โดยไลน์การผลิตแรกนั้นมีเป้าหมายในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ชื่อว่า 45 nm Semiconductor Node โดย 45 nm Technology นั้นคือขนาดของทรานซิสเตอร์ในชิปเซ็ตขณะที่ Technology Node อยู่ในฐานะกฎเบื้องต้นของกระบวนการผลิตที่ใช้ควบคุม โดยการพิมพ์เค้าโครงหน้าขนาดเล็กในแถวซ้ำ ๆ หลายครั้ง นอกจากไลน์การผลิตของ 45 nm แล้วหัวเว่ยยังมีแผนจะสร้างไลน์การผลิต 28 nm ด้วย

โดยรายละเอียดในการดำเนินงานของโครงการนี้ยังไม่ชัดเจนในขณะนี้ ขณะที่ไลน์การผลิตของ 45 nm จะดำเนินการโดยปราศจากการขำเข้าจากซัพพายเออที่เป็นบริษัทอเมริกัน เพื่อให้มั่นใจว่าจะไม่ต้องมาเจ็บปวดจากการแซงก์ชั่นอีกครั้ง และในมุมหนึ่งนี้จะเป็นการฆ่าบริษัทผู้ผลิตชิปเซ็ตเจ้าอื่น ๆ ไปด้วยใช่รึเปล่า ตอนนี้ หัวเว่ย เองไม่สามารถใช้ Google Mobile Sevices ได้ และนั้นนำมาสู่การพัฒนาระบบปฏิบัติการที่ชื่อ หงเหมิน ขึ้นมา (Hongmeng System หรือ HarmonyOS) ที่ตอนนี้กำลังอยู่ในขั้นตอนของการพัฒนา

รายงานล่าสุดแสดงให้เห็นความพยายามเริ่มต้นในโครงการเซมิคอนดักเตอร์ของพวกเขาซึ่งชื่อว่า Tashan โดย CEO หัวเว่ยด้านธุรกิจผลิตภัณฑ์ Consumer อย่างนาย Yu Chengdong (Richard Yu) เผยว่า บริษัทได้วางแผนริเริ่มเทคโนโลยีที่เป็นรากฐานเพื่อสร้างระบบนิเวศน์ใหม่เกี่ยวกับ เซมิคอนดักเตอร์ โดยหัวเว่ยเริ่มจากรากฐานในทั้งหมดทุกทิศทาง โดยหวังว่าจะก้าวกระโดดขึ้นไปอีกระดับในการวิจัยพื้นฐานและการผลิตที่เที่ยงตรงแม่นยำในวัสดุศาสตร์กายภาพ (Physical Material Science) หัวเว่ย แสดงความมุ่งมั่นผ่านการลงทุนเพิ่มในวัสดุและเทคโนโลยีที่เป็นหัวใจหลัก โดยบริษัทยังมองว่าจะสามารถพิสูจน์ถึงความเชื่อมโยงระหว่างวัสดุใหม่และกระบวนการผลิตใหม่เพื่อเอาชนะคอขวดที่ยับยั้งนวัตกรรม ขณะที่แหล่งข่าวยังบอกอีกด้วยว่าตอนนี้ประเทศจีนได้กำลังสร้างความเป็นอิสระผ่านการสร้าง ‘เครื่องลิโทกราฟี’ ซึ่งสามารถจะผลิตชิปเซ็ตขนาด 10 นาโนเมตรได้ในอนาคต

ในวันที่ 29 พฤศจิกายน 2021 ตามเวลาปักกิ่ง สถาบัน Optoelectronics Technology ที่สภาวิทยาศาสตร์ของจีนได้เผยแพร่งานวิจัยและพัฒนาของชาติเรื่อง โครงการพัฒนาอุปกรณ์ การพัฒนาอุปกรณ์ลิโทกราฟีขั้นสูงที่ได้ผ่านการทดสอบและกลายเป็นเครื่องลิโทกราฟีขั้นสูงขนาด 22 nm เครื่องแรกของโลกที่ใช้แหล่งพลังงานแสงอัลตราไวโอเลต ตามรายงานของสื่ออย่าง China’s Science and Technology Daily นาย Husung ซึ่งเป็นผู้อำนวยการของสถาบัน Optoelectronics Technology ที่สภาวิทยาศาสตร์ของจีนได้เปิดเผยว่า เมื่อไม่นานมานี้ได้มีการรับเอา เครื่องลิโทกราฟีมาใช้งานสำหรับ 365 nm รังสีอัลตราไวโอเลตของหลอดแสงจันทร์ (Mercury Lamp : หลอดไฟไอปรอท เป็นหลอดไฟ ที่ทำงานด้วยหลักการปล่อยประจุความเข้มสูง มีปริมาณเส้นแรงของแสงสว่างต่อวัตต์สูงกว่าหลอดชนิดอื่น) ที่มีต้นทุนอยู่ที่แค่หลักหมื่นดอลลาร์สหรัฐเท่านั้น (หลักหมื่นในที่นี้ไม่ได้หมายถึง 10,000 แต่หมายถึงช่วงระหว่าง 10,000-99,999) ขณะที่ราคาของเครื่องจักรทั้งหมดจะอยู่ในช่วงระหว่าง 1 ล้านดอลลาร์สหรัฐ – 10 ล้านดอลลาร์สหรัฐ ขณะที่ความสามารถในการทำงานของเจ้าของเครื่องลิโทกราฟีนี้อยู่ระหว่าง ระดับรังสีอัลตราไวโอเลตแบบเข้มข้นกับระดับรังสีอัลตราไวโอเลตแบบเข้มข้นสูงเส้นทางใหม่นี้เป็นอะไรที่สมบูรณ์แบบสำหรับการหลีกเลี่ยง การใช้สิทธิบัตรทั้งหลายของผู้ผลิตจากต่างชาติ

อะไรคือ ‘เครื่องลิโทกราฟี’ (Lithography Machine)

เครื่องลิโทกราฟี นั้นเปรียบได้ดั่งเพชรยอดมงกุฎของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งใช้ความแม่ยยำในการทำงานที่สลับซับซ้อนมากและอุปกรณ์ก็มีราคาแพงมาก เครื่องลิโทกราฟีเปรียบได้ดั่งผลงานชิ้นเอกในยุคอุตสาหกรรมสมัยใหม่ ที่ไม่ใช่แค่หนึ่งในหลายเทคโนโลยีสำคัญในการผลิตชิปทั้งหลายเท่านั้น แต่ยังเป็นเทคโนโลยีประสิทธิภาพสูงที่มีการประมวลผลที่แม่นยำในโลก ซึ่งได้ส่งเสริมโลกแห่งความเป็นจริงและการพัฒนาของสเกลขนาดใหญ่เป็นพิเศษที่จะผสานวงจรเครื่องลิโทกราฟีที่มีบทบาทหลักของการผสานวงจรของอุตสาหกรรมการผลิต

เครื่องลิโทกราฟี นั้นมีค่าเท่ากับ เครื่องฉายภาพสไลด์ (Projector) และโครงร่างต้นแบบ (The Fine Line Pattern) ซึ่งถูกถ่ายทอดลงบนจานที่ไวต่อแสงหรือรังสีอย่างผิดปกติ (The Photosensitive Plate) และตัวแสงเปรียบได้ดั่งมีดแกะสลัก แต่ระดับของความประณีตของเส้นมีจำกัดไม่น้อยกว่าครึ่งของช่วงความยาวคลื่น (ทางฟิสิกส์) ของแสงในปัจจุบัน เครื่องลิโทกราฟีใช้แหล่งกำเนิดของรัสสีอัตราไวโอเล็ตแบบเข้มข้นเป็นหลัก และจำกัดความละเอียดของการถ่ายทอดอยู่ที่ 34 nm และความละเอียดจะถูกปรับปรุงเพิ่มขึ้นโดยการใช้เทคนิคทั้งหลายด้านแสง

ในปี 2003 สถาบัน Optoelectronics Technology ของสภาวิทยาศาสตร์แห่งชาติจีน เริ่มศึกษาวิธีการใหม่ผ่านการเชื่อมโลหะและชิ้นส่วนฟิล์มที่ไม่ใช่โลหะเข้าด้วยกัน นี่จะเป็นความผิดปกติของอิเล็กตรอนที่จุดเชื่อมต่อที่ที่ฉายแสงถูกฉายไปที่ฟิล์มโลหะ เป็นสาเหตุให้อิเล็กตรอนเหล่านี้สั่นสะเทือนในรูปแบบที่เป็นระเบียบ ซึ่งจะผลิตคลื่นแม่เหล็กไฟฟ้าที่ช่วงความยาวคลื่นที่สั้นมาก ด้วยวิธีการนี้มีดแกะสลักจากกว้างจะกลายเป็นแคบ (ตรงน่าจะหมายความว่ายิ่งแคบเท่าไร การผลิตชิปเซ็ตก็น่าจะเล็กลงได้มากเท่านั้นตามไปด้วย) คุณ Husung ซึ่งเป็นผู้อำนวยการของสถาบัน Optoelectronics Technology ที่สภาวิทยาศาสตร์ของจีนเผยว่า เครื่องลิโทกราฟีของจีนมีความละเอียดเส้นแนวกว้างสูงสุดอยู่ที่ 22 nm ในการฉายแสงแบบเดี่ยวและความยาวคลื่นของ 365 nm (ระยะระหว่างจุด 2 จุดที่อยู่ถัดกันและมีเฟสตรงกันบนคลื่น) มีค่าเท่ากับ 117 สำหรับช่วงความยาวคลื่น (ทางฟิสิกส์) ของแสง

สิ่งที่สำคัญที่สุดคือตอนนี้จีนเป็นอิสระจากทรัพย์สินทางปัญญาในเรื่องเครื่องลิโทกราฟีโดยสมบูรณ์แล้ว

ส่อง ASML คู่แข่ง หัวเว่ย นาทีนี้ใครแน่กว่ากัน

บริษัท อาเอสเอ็มเอล โฮลดิง (ASML) เป็นบริษัทสัญชาติดัตช์ที่เป็นผู้มีความเชี่ยวชาญพิเศษ มีความสามารถในการพัฒนา และเป็นผู้ผลิตระบบลิโทกราฟีแบบใช้แสงที่ใหญ่ที่สุดในโลก อันเป็นเทคโนโลยีหลักในการสร้างวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในปัจจุบัน และปัจจุบันพวกเขาก็เป็นซัพพลายเออร์รายใหญ่ที่สุดในโลกของระบบโฟโต้ลิโทกราฟี ซึ่งเป็นอุตสาหกรรมต้นน้ำของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ และเป็นซัพพลายเออร์เครื่องลิโทกราฟีตัดขอบวงจรรวม พร้อมกับกระบวนการทำงานที่จำกัดอยู่ที่ 7 นาโนเมตร เครื่องอียูวีลิโทกราฟีของ ASML นั้นใช้แหล่งของแสงอัลตราไวโอเลตระดับเข้มข้นสูง (Extreme Ultraviolet) ขนาด 13.5 นาโนเมตร นั่นเพิ่มต้นทุนให้พวกเขามากกว่า 30 ล้านดอลลาร์สหรัฐและใช้อยู่ภายใต้สุญญากาศ

ตามรายงานยังบอกอีกว่าสถาบัน Optoelectronics Technology ของสภาวิทยาศาสตร์แห่งชาติจีนเป็นผู้เชี่ยวชาญในรูปแบบหลัก เช่น เลนส์ลิโทกราฟีความละเอียดของภาพขั้นสูง (Super Resolution Lithography Lens) การค้นหาช่องว่างความแม่นยำ (Precision Gap Detection) ระดับความแม่นยำในตำแหน่งของนาโน (Nano Level Positioning Precision) ตารางชิ้นงาน (Workpiece Table ชิ้นงาน:ผลงาน ซึ่งเกิดขึ้นตั้งแต่เริ่มเข้าสู่กระบวนการเทคโนโลยีจนกระทั่งสิ้นสุดกระบวนการ โดยถ่ายทอดความคิดได้ 4 รูปแบบ คือ ภาพร่าง แผนที่ความคิด แบบจำลอง และต้นแบบ) การแกะสลักโครงสร้างสัดส่วนสูง (High Aspect Ratio Etching) และ Multiple Graphics Matching Lithography Processors ทำให้จีนกลายเป็นผู้นำโลกในวงการของ Super Resolution Imaging Lithography แต่อุปกรณ์ของ ASML ยังคงมีอิทธิพลและตอนนี้จีนก็ยังต้องทำงานอย่างหนักต่อไป

โดยก่อนหน้านี้ทาง Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. (SMEE) ที่ถูกตั้งขึ้นในปี 2002 ได้นำหน้าในการพัฒนาเครื่องลิโทกราฟีขนาด 90 นาโนเมตร และตอนนี้ด้วยขนาดเครื่องลิโทกราฟี 22 นาโนเมตร ที่พัฒนาโดยสถาบัน Optoelectronics Technology ของสภาวิทยาศาสตร์แห่งชาติจีนได้ผ่านขั้นตอนการทดลองแล้ว และนี่คือความสำเร็จครั้งใหญ่ของประเทศจีน ถึงแม้สถาบันวิจัยของจีนทั้งหลายได้พัฒนาเครื่องลิโทกราฟีใหม่ขึ้นมา ตัวเครื่องลิโทกราฟีของ ASML ก็ยังคงเป็นตัวเลือกแรกของลูกค้าจีนทั้งหลายอยู่ดีในตอนนี้

ขณะที่รายงานจากฝั่งเนเธอร์แลนด์เผยว่า ตอนนี้บริษัทผู้ผลิตชิปเซ็ตของจีนอย่าง Yangtze Storage ได้มีการขนย้ายเครื่องลิโทกราฟีที่มีมูลค่า 72 ล้านดอลลาร์สหรัฐ โดยจะส่งจาก ASMLไปสู่เมืองอู่ฮั่นในมณฑลหูเป่ย์ ไม่น่าเชื่อว่าการออกแบบชิปเซ็ต การผลิตชิปเซ็ตเกี่ยวพันกับอุปกรณ์เทคโนโลยีสำคัญจำนวนมากที่ต้องใช้ ‘เครื่องลิโทกราฟี’ เครื่องอียูวีลิโทกราฟีมีมูลค่ามากกว่า 120 ล้านดอลลาร์สหรัฐ สถาบันวิจัยของจีนตอนนี้สามารถก้าวข้ามไปสู่รูปแบบของเทคโนโลยีเลเซอร์ลิโทกราฟีขนาด 5 นาโนเมตร โดยผู้เชี่ยวชาญเชื่อว่าตรงนี้จะเป็นการวางรากฐานสำหรับการวิจัยเพื่อพัฒนาเครื่องลิโทกราฟีขั้นสูงต่อด้วยตัวเองต่อไปในส่วนที่จีนยังคงล้าหลังประเทศตะวันตก

เทคโนโลยีใหม่ตัวนี้ได้ทำลายข้อจำกัดดั้งเดิมไปเป็นที่เรียบร้อยผ่านการเขียนด้วยเลเซอร์โดยตรงและยังสามารถทำงานได้ในระดับนาโนเลยทีเดียว กระบวนการทำงานที่มีความแม่นยำสูงเป็นพิเศษคือพื้นฐานของรูปแบบใหม่ของโครงสร้างเยื่อบุผิวสามชั้นในการเพิ่มความแม่นยำระดับสูงและตัวเทคโนโลยีเองก็ได้พิสูจน์ถึงศักยภาพสำหรับการผลิตในระดับเชิงพาณชิย์ (Mass Production) เทคโนโลยีการใช้เลเซอร์เขียนโดยตรงจะสามารถใช้สำหรับผลิตได้มากกว่า 500,000 ขั้วไฟฟ้าพิเศษระดับนาโนต่อหนึ่งชั่วโมง ในประเทศจีน Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) ได้ประกาศในเดือนมิถุนายนที่ผ่านมาว่า พวกเขาคาดว่า เครื่องลิโทกราฟีขนาด 28 นาโน (Immersion-Type Lithography Machine) เครื่องแรกของจีนจะสามารถส่งมอบได้ในช่วงปี 2021-2022 นี้

SMEE สามารถผลิต เครื่องลิโทกราฟี พร้อมกับการทำงานที่ดีที่สุดของโหนดการประมวลผลขนาด 90 นาโนเมตร การที่ ASML ผูกขาดเทคโนโลยีสำคัญในด้านนี้ทำให้เป็นเรื่องยากที่ทางบริษัทจีนจะสามารถหาทางลัดในการผลิตของพวกเขา มันคือความเร่งด่วนในการปรับปรุงผลลัพธ์การผลิตของเครื่องจักร ขณะที่ผู้เชี่ยวชาญในวงการก็มองว่ามีประเด็นสำคัญอีกประเด็นคือการขาดการใส่เงินทุนที่เพียงพอเนื่องจากมีผลตอบแทนกลับมาที่ช้า แถมต้องใช้เงินทุนมหาศาล

ASML ได้ส่งมอบ เครื่องอียูวีลิโทกราฟีขนาด 7 นาโนเมตรในปีที่ผ่านมา โดยบริษัทยังได้ประกาศในช่วงมิถุนายน 2021 ที่ผ่านมาว่า พวกเขากำลังมีการพัฒนาครั้งใหญ่ในเครื่องมือที่ชื่อว่า Multi-Beam Inspection Tool สำหรับเครื่องลิโทกราฟีขนาด 5 นาโนเมตร

แปลและเรียบเรียง : เอกพล มงคลพัฒนกุล

ที่มา : MH Tech Talk

ติดตาม Business+ ได้ที่ : https://www.thebusinessplus.com/
Line Business+ ได้ที่ : https://lin.ee/pbIHCuS
IG ได้ที่ : https://www.instagram.com/businessplus.newgen2021/

#Businessplus #Business+ #นิตยสารBusinessplus #Huawei #ASML #เครื่องลิโทกราฟี #เซมิคอนดักเตอร์ #AdvanceChipset #Semiconductor #ชิปเซ็ต